對於容性耦合放電的真空香蕉视频黄污清洗機而言，無論是直流輝光放電，還是交流高頻放電的放電形式，隻要工藝氣體是惰性氣體就都會不可避免的產生濺射。在普通的產品和材料中，微弱的濺射現象並不會影響到基體的特性，但對於要求比較嚴格的產品而言，諸如醫療器械，則濺射現象越少越好，所以可見不同材料受到的射頻濺射的影響是不同的，今天香蕉视频网站在线观看所要聊到的便是射頻濺射對於香蕉视频黄污清洗機處理產品的影響。

　　1、射頻濺射介紹

　　真空香蕉视频黄污清洗機在低壓狀態下射頻自偏壓在電極板周圍會產生自偏壓鞘層，鞘層內的離子受自偏壓的驅動會加速向極板運動，從而對極板材料產生濺射。

　　金屬的濺射閾值大約都在10~30eV的範圍，而當離子能量增大到100eV之前，濺射率就會隨之增加，在很寬的範圍內，濺射率有極大值，然後就逐漸變小。例如對於300eV能量的Ar離子濺射靶，其濺射效率為0.3，600eV能量的Ar濺射靶效率為0.45，而對於300eV的氮離子注入靶濺射效率比0.3小一點。當使用圓柱式射頻振蕩時，如果外電極接地，內電極上自偏壓相對於外電極顯負電性。內電極上自偏壓會在內電極周圍產生一個離子鞘，內電極材料被鞘內離子濺射。

　　為了增加RF濺射效率，一般在濺射靶材背麵加上磁鐵，稱為射頻磁控濺射。如下圖電子在磁場的靶表麵回旋運動，靶表麵上的香蕉视频黄污體密度增大，放電阻抗低，因此可以獲得比普通極板RF濺射高 10~100倍的濺射效率。在濺射的過程中，靶材通常溫度很高，所以需要有水冷。

　　磁控靶表麵磁場分布及電子運動狀態當使用圓柱式電極RF濺射時，若在中心電極上實行濺射，可將中心電極做成中空細圓筒，在圓筒內加入磁鐵，可以實現中心電極磁控濺射。

　　容性耦合的真空香蕉视频黄污清洗機，無論是多層電極，抑或雙層，基本上都采用鋁合金作為電極，這主要是因為金屬鋁具有良好的散熱性能和對香蕉视频黄污體的耐候性，但是長期在香蕉视频黄污轟擊下，電極表麵仍然有鋁原子逃逸出來。

　　真空香蕉视频黄污清洗機多層水平電極3、射頻濺射對處理產品的影響

　　正是由於射頻濺射會轟擊出金屬粒子，這些金屬粒子會被附著在產品表麵，形成汙染，例如半導體引線框架，偶爾還會發現金屬注入的現象，打線質量受到影響，又如醫療用高分子材料表麵會殘餘金屬原子，對使用的人體存在著隱患等。

　　為了避免或減少射頻濺射對產品影響，香蕉视频黄污清洗機的腔體結構、電極板冷卻以及工藝參數的優化都非常重要，這也正是在許多香蕉视频黄污處理的過程中所都要注意到的。當然也不能忽視射頻濺射的積極作用，它的處理特性也是之所以被應用的重要原因。